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本場將深入探討奈米尺度觀察技術在先進半導體製程中的應用,首先解析CMP製程中晶圓與研磨液之間的界面電荷行為,說明其對製程穩定性與成品品質的影響;其次介紹TGV孔洞三維形貌量測技術,分享實際案例與最新觀測成果,協助業界掌握製程優化與檢測新趨勢。
本場將深入探討奈米尺度觀察技術在先進半導體製程中的應用,首先解析CMP製程中晶圓與研磨液之間的界面電荷行為,說明其對製程穩定性與成品品質的影響;其次介紹TGV孔洞三維形貌量測技術,分享實際案例與最新觀測成果,協助業界掌握製程優化與檢測新趨勢。
本場將深入探討奈米尺度觀察技術在先進半導體製程中的應用,首先解析CMP製程中晶圓與研磨液之間的界面電荷行為,說明其對製程穩定性與成品品質的影響;其次介紹TGV孔洞三維形貌量測技術,分享實際案例與最新觀測成果,協助業界掌握製程優化與檢測新趨勢。
界達電電位代表的意義,包括正負號、絕對值、以及對分散性的影響。
該如何量測界達電位以及電氣滲透流產生的影響,最後再推廣到固體樣品的表面電位量測方法。

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